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電鏡用鍍膜儀的主要功能及技術參數
點擊次數：840 更新時間：2021-06-25
電鏡用鍍膜儀可以提供噴碳和濺射兩種工作模式。此外，系統配有膜厚晶振儀，可以對膜厚進行準確的控制。設備采用觸摸屏控制，過程全自動操作。
電鏡用鍍膜儀配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發鍍膜機后，可以在全自動化系統中獲得*可重復的結果，實現了一臺EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統在一臺儀器中提供可互換機頭的組合儀表。各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉、輝光放電和可交換屏蔽共同構成這臺低真空鍍膜機。
電鏡用鍍膜儀的技術參數：
可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電(用于網格表面親水化)
設計脈沖式碳絲蒸發方式，可準確控制碳膜厚度
可選石英膜厚檢測器，準確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm
全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
觸摸屏控制，簡單方便
真空度7×10-3mbar
濺射電流：0-150mA可調
方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
工作距離調節范圍：30mm-100mm
電鏡用鍍膜儀的技術指標：
薄膜沉積模式： 噴碳，以及濺射(Pt等)
系統真空度： 10-6mbar
濺射靶材直徑： 54mm
碳絲蒸發較大功率： 700W
濺射電流： 15～150mA
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